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uv光解除臭設(shè)備的除臭原理

更新時間:2021-04-19 17:05????瀏覽:
uv光解除臭設(shè)備的除臭原理
 
1.該產(chǎn)品用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如氨、硫化氫、甲基硫、甲硫醇、甲基硫、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC,以及苯、甲苯、二甲苯的分子鍵,使游離狀態(tài)的污染物分子被氧化并與臭氧結(jié)合形成小分子無害或低危害的化合物,如CO2、H2O。
 
2.利用高能、高臭氧的UV光束分解空氣中的氧分子,產(chǎn)生游離氧,即活性氧,由于游離氧攜帶的正負電子不平衡,需要與氧分子結(jié)合,進而產(chǎn)生臭氧。
 
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。眾所周知,臭氧對有機物有很強的氧化作用,對惡臭氣體等刺激性氣味有凈化作用。
 
3.惡臭氣體通過排氣設(shè)備輸入凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解和氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳,然后通過排氣管排放到室外。
 
4.利用高能紫外光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞細菌的核酸(DNA),然后通過臭氧進行氧化反應(yīng),從而完全達到除臭殺菌的目的。
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