uv光解除臭設(shè)備如何才能完全達(dá)到除臭殺菌的目的

 

uv光解除臭設(shè)備利用UV高能紫外光束分解空氣中氧分子產(chǎn)生的游離氧，由于游離氧攜帶的正負(fù)電子不平衡，需要與氧分子結(jié)合，進(jìn)而生成臭氧。uv光解除臭設(shè)備占地面積?。皇褂梅奖?，易清洗，維護(hù)方便；耐沖擊負(fù)荷，不易受污染物濃度計(jì)溫度變化影響；適用范圍廣，對惡臭氣體的去除率***別***。利用高能紫外光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵和細(xì)菌的核酸(DNA)，再利用臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到除臭殺菌的目的。

 

工業(yè)uv光解除臭設(shè)備中，醛酮在光催化階段比初始烴類具有更***的混響活性；此外，光解階段產(chǎn)生的副產(chǎn)物不僅有利于在光催化階段轉(zhuǎn)化為二氧化碳和水，而且uv光解除臭設(shè)備促進(jìn)了初始工業(yè)廢氣的氧化、分化和破壞。光解階段產(chǎn)生的副產(chǎn)物進(jìn)入光催化階段，促進(jìn)光催化劑的外部反應(yīng)，如鏈?zhǔn)椒磻?yīng)，也影響催化劑外表面的界面反應(yīng)，可快速氧化其他污染物。因此，uv光解光催化是一個(gè)協(xié)同反應(yīng)過程。

 

節(jié)能型UV光氧凈化設(shè)備占地面積小，自重輕:適用于布局緊湊、場地狹小等***殊條件，設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。光氧凈化設(shè)備利用***制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或者無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光速照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

 

惡臭氣體通過排氣設(shè)備輸入凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過排氣管排放到室外。

 

uv光解除臭設(shè)備產(chǎn)品采用進(jìn)口材料，耐火耐腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，為不銹鋼或PP，設(shè)備使用壽命在15年以上；采用上述技術(shù)理念，可以徹底分解工業(yè)廢氣中有害有毒物質(zhì)，達(dá)到除臭凈化的效果；分解后的工業(yè)廢氣可以完全實(shí)現(xiàn)無害化排放，不會(huì)產(chǎn)生二次污染，同時(shí)達(dá)到殺菌的作用。