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uv光解除臭設(shè)備的工作原理和特點(diǎn)?

更新時(shí)間:2021-09-08 16:01????瀏覽:
uv光解除臭設(shè)備的工作原理和***點(diǎn)?
 
uv光解除臭設(shè)備的工作原理:
 
惡臭氣體通過(guò)排氣設(shè)備輸入凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳,然后通過(guò)排氣管排放到室外。惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵被高能紫外光束裂解,細(xì)菌的核酸(DNA)被破壞。然后通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),徹底達(dá)到除臭殺菌的目的。
uv光解除臭設(shè)備的技術(shù)***點(diǎn);
 
成本低,運(yùn)行穩(wěn)定可靠,無(wú)需***別護(hù)理,但廢氣處理速度慢,效率低于低溫等離子體技術(shù)。
低溫等離子體是繼固體、液體和氣體之后的***四種物質(zhì)狀態(tài)。當(dāng)施加的電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí),氣體迅速分解,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基的混合物。雖然放電過(guò)程中電子溫度很高,但重粒子的溫度很低,整個(gè)系統(tǒng)處于低溫狀態(tài),所以被稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用廢氣中這些高能電子、自由基等活性粒子和污染物,使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)分解,并發(fā)生后續(xù)反應(yīng),達(dá)到降解污染物的目的。等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高能量物質(zhì),如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等。廢氣中的污染物可以與這些物質(zhì)發(fā)生高能反應(yīng),使污染物在極短的時(shí)間內(nèi)分解,并發(fā)生各種后續(xù)反應(yīng),達(dá)到分解污染物的目的。與傳統(tǒng)電暈放電產(chǎn)生的低溫等離子體技術(shù)相比,等離子體技術(shù)的放電密度是電暈放電的1500倍,這也是傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)未能處理99%工業(yè)廢氣的原因。與目前***內(nèi)常用的惡臭氣體處理方法相比,等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下***點(diǎn):低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體處理,處理效果***,成本高,但運(yùn)行成本極低,無(wú)二次污染,運(yùn)行穩(wěn)定,運(yùn)行管理簡(jiǎn)單,隨時(shí)可用等。,可以瞬間處理廢氣,效率高,環(huán)境安全系數(shù)高。
 
uv光解除臭設(shè)備的***點(diǎn):
 
1.uv光解是紫外線照射技術(shù),通過(guò)紫外線燈管產(chǎn)生的光譜照射廢氣的成分,分解廢氣中的氧分子產(chǎn)生臭氧,利用臭氧氧化分解廢氣。這項(xiàng)技術(shù)主要用于殺菌消毒。
 
2.主要設(shè)備配置不同:uv光解設(shè)備內(nèi)部組成主要由紫外燈管和活性炭纖維過(guò)濾層組成。
 
3.去除能力不同:uv光解產(chǎn)生的臭氧氧化能力為1.24eV,只能氧化一小部分廢氣成分。
 
4.不同使用壽命:uv光解紫外燈管和電源8000小時(shí)(進(jìn)口產(chǎn)品)?;钚蕴坷w維層根據(jù)廢氣濃度頻繁更換。
 
5.設(shè)備安全防控措施不同:對(duì)于UV光解主機(jī)設(shè)備基本沒有安全防控措施。
 
6.設(shè)備周期性運(yùn)行的保障措施不同:uv光解主機(jī)內(nèi)部的光量子管長(zhǎng)期運(yùn)行后,管壁附著的結(jié)焦物沒有在線清洗措施,影響設(shè)備的運(yùn)行和去除效率。

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