光催化除臭設(shè)備的工作原理及特點(diǎn)介紹

 

光催化除臭裝置是目前工業(yè)廢氣處理技術(shù)中的先進(jìn)技術(shù)之一。其開發(fā)充分考慮了工業(yè)廢氣性質(zhì)的不確定性和復(fù)雜性，從工程設(shè)計(jì)、匹配、安裝、調(diào)試和維護(hù)等方面提供了極大的可行性、可靠性、靈活性和有效性。下面簡要介紹光催化除臭裝置的工作原理和優(yōu)點(diǎn)。

光催化除臭裝置的除臭機(jī)理主要包括兩個(gè)方面:

第一，高壓放電等離子體過程中，高能產(chǎn)生的高頻放電，釋放出氣體分子的一些有害化學(xué)能，使它們成為無害的元素原子或分子；

第二，由于高壓放電等離子體含有大量高能電子、正負(fù)離子、激發(fā)態(tài)粒子和強(qiáng)氧化自由基，粒子和氣體分子與我的活性部位碰撞，在電場作用下產(chǎn)生激發(fā)態(tài)氣味分子。當(dāng)氣味分子獲得的能量超過其分子鍵的結(jié)合能時(shí)，氣味分子的化學(xué)鍵就會(huì)分解，直接分解成單個(gè)或無害的單個(gè)原子分子。同時(shí)，大量的活性自由基，如OH、HO2等被高度氧化，與有害氣體分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生無害產(chǎn)物。光催化除臭裝置在處理廢氣和廢水的過程中，具有除塵、除臭、消毒殺菌、降解有機(jī)廢氣、釋放負(fù)氧離子等多種處理效果。光催化除臭裝置在廢氣和廢水處理中具有廣泛的環(huán)保功能。

高處理效率:

該設(shè)備能有效去除硫化氫(H2S)、氨(NH3)、甲硫醇等特定污染物。，以及各種氣味(臭味)，效果可達(dá)90%以上。

節(jié)省投資，運(yùn)行穩(wěn)定，能耗低；

采用進(jìn)口高科技活性氧攻擊控制裝置，風(fēng)阻小，使用壽命長，功耗極低。

純物理方法原理，安全可靠:

氧化反應(yīng)在常溫常壓下進(jìn)行，無二次污染。

未準(zhǔn)備好完全主動(dòng)運(yùn)行:

無需專人處理，處理方便，運(yùn)營成本極低?？梢赃B續(xù)操作，也適合連續(xù)操作。

主動(dòng)控制和簡單操作:

經(jīng)過PLC等自動(dòng)控制，可以遠(yuǎn)程操作，也可以本地操作。就地操作有手動(dòng)操作和主動(dòng)操作兩種方式，體積小，重量輕，占地面積小。光催化除臭裝置適用于安裝緊湊、場地狹窄等特殊條件的改造工程。