uv光解除臭設(shè)備工作原理及***點(diǎn)

 

uv光解除臭設(shè)備的原理:

1.本產(chǎn)品采用***殊的高能臭氧紫外光束照射惡臭氣體，對(duì)氨氣、三甲胺、硫化氫、甲硫醚、甲硫醇、甲硫醚、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S/VOC、苯、甲苯、二甲苯的分子鍵等惡臭氣體進(jìn)行裂解，使游離狀態(tài)的污染物分子被臭氧氧化形成小分子無(wú)害或低危害的化合物，如CO2、H2O等。

2.uv光解除臭設(shè)備利用高能、高臭氧的uv光束分解空氣中的氧分子，產(chǎn)生游離氧，即活性氧，由于游離氧攜帶的正負(fù)電子不平衡，需要與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

uv光解除臭設(shè)備適用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體的除臭和凈化。

uv光解除臭設(shè)備的***點(diǎn):

1.除臭:可去除揮發(fā)性有機(jī)化合物(VOC)、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨、硫醇等主要污染物，以及各種惡臭。

2.無(wú)需添加任何物質(zhì):只需設(shè)置相應(yīng)的排氣管和排氣動(dòng)力，即可通過(guò)設(shè)備對(duì)惡臭氣體進(jìn)行除臭、分解和凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

3.適應(yīng)性強(qiáng):能適應(yīng)高濃度、***氣量、不同惡臭氣體物質(zhì)的除臭凈化處理，可24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

4.運(yùn)行成本低:該設(shè)備無(wú)機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需定期檢查，該設(shè)備能耗低。

5.設(shè)備占地面積小，自重輕，適用于布局緊湊、場(chǎng)地狹窄等***殊情況。進(jìn)口材料制造，防火防爆防腐。

6.不需要預(yù)處理。